Techniki litograficzne
a) fotolitografia klasyczna,Podłoże, naniesienie warstwy (SiO2), naniesienie fotorezystu (pozytywowy-zaświtlone obszary ulegają wypłukaniu pod wpływem wywoływacza, negatywowy – obszary zaświetlone ulegają utwardzeniu), suszenie wstępne (60-100st), centrowanie maski, naświetlanie fotorezystu (tryb kontaktowy, zbliżeniowy, projekcyjny), wywołanie fotorezystu, hartowanie (120-180st), inne procesy, usunięcie fotorezystu.
b) fotolitografia w głębokim i bardzo głębokim ultrafiolecie
c) modyfikacje fotolitografii klasycznej:
- litografia z korekcją efektów bliskości – uwzględnie na poziomie projektowania masek efektów związanych z odwzorywaniem obiektów porównywalnych z lambda (wskutek dyfrakcji krawędzie obrazów ulegają rozmyciu),
- litografia z przesunięciem fazowym – wykorzystanie masek poprawiających kontrast wykorzystując zjawisko destruktywnej interferencji fal.
- litografia pozaosiowa – polega na zbieraniu części prążków dyfrakcyjnych wyższych rzędów, które są tracone w osiowej. Bardzo ważna jest tu orientacja maski względem źródła światła oraz konieczne są obroty masek i wilokrotne naświetlanie lub stosowanie apertur o różnych kształtach (pierscieniowa, kwadrapulowa, dipolowa, custom).
- litografia immersyjna – polega na wprowadzeniu pomiędzy maske a plytke wody, która zwiększa rozdzielczość..
d) litografia wiązką elektronów – przy dużych napieciach przyspieszających mamy długość fali znacznie mniejsza od anksztrema; wiązkę trzeba skupiać; finalna średnica wiązki – kilka nm o owalnym kształcie, ale stosując przesłony można ją modyfikować; odchylanie elektrostatyczne lub magnetyczne; wiążka elektronów uszkadza strukturę fotorezystu; naświetlanie rastrowe (wszystko piksel po piksel) lub wektorowe (tylko obszar odwzorowywany); układy naświetlające: o kształtowanej wiązce, o zmiennie kształtowanej wiązce, system projekcyjny; należy dobrać odpowiednią energię elektronów, aby zminimalizować efekty niedoświetlenia oraz prześwietlenia.
e) litografia rentgenowska , - długośc fali rzędu pojedynczych anksztremów. Ograniczenia wynikają z quasi-punktowego charakteru źródeł (efekty przesunięć i półcienia).
f) litografia wiązką jonów – żródła jonów: gazowe, ciekłe metaliczne i plazmowe. Wiązka jonów pozwala na obróbkę dowolnego materiału. Analogicznie do elektronowej.
g) atomowa litografia optyczna.
Miękka litografia: Druk mikrokontaktowy, Nanowdrukowywanie, Odciskanie, Druk nanotransferowy.
Techniki wykorzystujące mikroskopię bliskich oddziaływań.
Fotorezyst pozytywny:
ZALETY :
- wysoka rozdzielczość,
- niektore z fotorezystow (np. DQN) są odporne na działanie plazmy,
- wywoływacze oparte na roztworach wodnych (ale związkow alkalicznych, więc mogą działać drażniąco na skórę, są też agresywne dla metali)
- powszechnie dostępne
WADY: - często nienajlepsza adhezja, - słaba fotoczułość, - fotorezysty PMMA mało odporne na działanie plazmy (częściowo można temu zaradzić nanosząc je grubiej); - droższe od negatywowych
Fotorezyst negatywny:
ZALETY:
- wysoka fotoczułość, - dobra adhezja do podłoży, - bardziej odporne chemicznie, - tanie,
WADY :- gorsza rozdzielczość niż pozytywowych (> 1,5 mm),
- toksyczne wywoływacze,
- w trakcie wywoływania „puchną”,
- zabrudzenia na maskach generują dodatkowe obszary cienia powodujące po działaniu wywoływacza powstawanie „pinholi”.
UWAGI DODATKOWE:
-rożne fotorezysty dla rożnych długości fali promieniowania naświetlającego (UV, DUV, EUV, wiązka elektronow, jonow)
- ważny parametr – kontrastowość (zdolność do rozrożniania obszarow przeźroczystych i nieprzeźroczystych maski)
- czułość na parametry procesow suszenia wstępnego, wywoływania, hartowania oraz dalszych procesow, w których służą jako maski,
- stopień jednorodności grubości fotorezystu (niejednorodności mogą skutkować prześwietleniem lub niedoświetleniem fotorezystu, a więc i zniekształceniem odwzorowania).
12.12.2008. 11:15
Nad tym rewelacyjnym serwisem na pewno przesiedzisz bardzo wiele czasu: WLOSKI WARSZAWA. Chodząc po globalnej sieci można wypatrzyć wiele różnorodnych witryn internetowych. Uważam, że ta Ci się spodoba: e-pożyczki. Niedawno kumpel nakłonił mnie do obejrzenia tej strony: szkolenia excel. Buszując po globalnej sieci da się wynaleźć dużo wielorakich witryn internetowych. Wydaje mi się, że ta będzie perfekcyjna: voip test. Nie zapomnij odwiedzić moją zaprzyjaźnioną stronę internetową: szkolenie excel.Spis treści
- Granice i bariery rozwoju
- Modyfikacje warstw
- Ultracienkie warstwy
- Rozdzielczość układów optycznych
- Techniki litograficzne